2ac-12/01 光刻胶匀胶机 薄膜胶液旋涂仪

产品简介

2ac-12/01 匀胶机是一款高效能的旋涂仪，专为薄膜和胶液的均匀涂覆设计。它具备宽范围的旋转速度调节（100-4000RPM），以及精确的时间控制（高达3000秒），确保不同应用需求下的涂层厚度和均匀性。该设备通过离心力原理实现均匀涂覆，适用于光刻胶及各种液体材料。配备电磁阀控制的真空吸附系统，有助于提高操作效率和稳定性。此外，设备电机运转平稳，电器线路可靠，支持自动转速修正功能，提升了使用便捷性和加工质量。

匀胶机是一种用于涂覆薄膜、涂胶液或其他液体材料在基片表面上的设备，其工作原理基于离心力。匀胶机在半导体制造、光学涂层、材料科学等领域具有重要应用，特别是在制备薄膜、涂覆光刻胶等工艺中。匀胶机的工艺参数包括旋转速度、旋转时间、胶液的粘度、滴液位置等。这些参数会影响涂层的厚度、均匀性和质量。不同的应用和材料可能需要不同的工艺参数。

技术参数

产品优势

• 该设备具有匀胶效率高，使用方便等特点。

• 其匀胶速度、时间分多个时段，并分别无级可调。

• 电器线路可靠，电机运转平稳，特别是电机转矩大，优于同类产品。

• 吸片采用电磁阀控制气路，这样适合流水线的工艺，一个气泵可同时带几个匀胶机工作，提高了效率。

功能特点

• 涂覆均匀性： 匀胶机通过离心力的作用，能够将胶液均匀涂覆在基片表面，实现高质量的薄膜或涂层。这种均匀性对于许多应用，如光刻工艺，具有关键性的重要性。

• 工艺可控性： 匀胶机通常提供丰富的参数调节选项，如旋转速度、旋转时间、涂覆位置等。操作人员可以根据具体需求调整这些参数，以实现所需的涂覆效果和薄膜厚度。

• 应用广泛： 匀胶机不仅适用于光刻胶的涂覆，还可以用于涂覆其他各类胶液、液体材料或溶液，如聚合物涂层、薄膜制备等领域。

• 旋转速度范围： 匀胶机的旋转速度通常具有较宽的范围，从低速到高速都可以调节，以满足不同涂层厚度和均匀性的需求。

• 真空吸附： 为了确保基片在旋转涂覆过程中保持稳定，匀胶机通常配备真空吸附系统，确保基片牢固地固定在托盘上。

• 自动控制： 许多匀胶机提供自动控制选项，可以通过编程预设涂覆参数，从而实现自动化的涂覆过程。

工作原理

匀胶机的工作原理是通过将胶液滴在旋转的基片上，然后通过旋转运动使胶液在基片表面均匀分布，形成薄膜或涂层。离心力会将胶液从中心向外边界扩散，最终形成均匀的涂层。匀胶机的旋转速度和时间以及胶液的粘度等参数会影响薄膜或涂层的厚度和均匀性。